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平面全息光栅 25×25mm 2400Lines/mm 波长范围190-800nm 紫外熔融石英
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产品型号 379002
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- 刻线数 2400Lines/mm
- 光谱范围 190-800nm
- 峰值波长 250nm
- 尺寸 25×25mm
- 基片材料 紫外熔融石英
- 厚度 6.0mm
- 有效孔径 0.9
- 尺寸公差 ±0.1mm
- 厚度公差 ±0.1mm
- 色散 0.39nm/mrad
- 表面光洁度 60-40
- 衍射效率 50%-70%@峰值波长
平面全息光栅是利用激光干涉光刻技术制造的高级色散元件。通过记录两束相干激光产生的干涉条纹，在光敏材料上形成完美的正弦波形槽形，并通过离子束刻蚀将其转移至基底。相比刻划光栅，全息光栅在杂散光抑制、波前平整度和抗噪性能方面具有显著优势 。当两束相干光相遇时会产生干涉条纹，用光敏材料记录并形成光栅刻槽，条纹间距由两束光的夹角和波长确定。由于刻槽位置由干涉条件决定，所以用这种方式制作的光栅没有机械刻划造成的随机性和周期性误差。
平面全息光栅母版刻线密度从1200lines/mm到4321lines/mm,使用波段为170-1800nm。还可以根据用户需要，制作新的全息光栅母版。
产品特点
1.无鬼线：全息工艺彻底消除机械刻划的周期性误差
2.杂散光极低：杂散光水平低至 10⁻⁵，比刻划光栅低1-2个数量级
3.高波前质量：波前畸变可达λ/10
4.极高线密度：轻松实现 3600线/mm、6000线/mm
平面全息光栅母版刻线密度从1200lines/mm到4321lines/mm,使用波段为170-1800nm。还可以根据用户需要，制作新的全息光栅母版。
产品特点
1.无鬼线：全息工艺彻底消除机械刻划的周期性误差
2.杂散光极低：杂散光水平低至 10⁻⁵，比刻划光栅低1-2个数量级
3.高波前质量：波前畸变可达λ/10
4.极高线密度：轻松实现 3600线/mm、6000线/mm
